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海德平面研磨機

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半導(dǎo)體硅片系列

半導(dǎo)體材質(zhì)精拋液

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  • 產(chǎn)品介紹
  • 規(guī)格參數(shù)

  半導(dǎo)體材質(zhì)精拋液的組分:拋光粉、水、酸、無機鹽、其他。適合半導(dǎo)體材質(zhì)工件精拋加工用。(詳情請咨詢海德0755-89813868


(圖一:部分添加試劑)

(圖二:拋光粉)

    一般來說,工件要實現(xiàn)鏡面效果,基本上都是要經(jīng)過粗拋、精拋和拋光這三道工序的。如果工件本身具有一定的精度,則可以省略粗拋工序。

  粗拋:去除毛坯的大部分余量,最后所達(dá)到的效果要保持到大致的幾何形狀與粗糙度。

  精拋:粗拋完成后的下一個工序就是精拋,結(jié)果是能夠保持最精確的幾何形狀以及精細(xì)的裂紋深度。

  拋光:工件通過了粗拋、精拋工藝后,進(jìn)入拋光工序;也是最終實現(xiàn)光學(xué)表面層實現(xiàn)的最后一個部分,前提下前兩者必須要為最后一步拋光做好準(zhǔn)備,使得在整個拋光過程當(dāng)中,盡量去除粗拋與精拋所留下的破環(huán)層,實現(xiàn)光學(xué)表面最理想鏡面效果。

  由于這三種工序不同,所用的研磨液也不一樣

  1.粗拋選擇的耗材是:粗拋液,粗磨盤(鑄鐵盤)。這兩種耗材的成分里面,主成分的材質(zhì)稍微較粗,要求硬度較高,顆粒度較大,這樣才有較好的切削力。

  2.精拋選擇的耗材是:精拋液,精磨盤(錫盤)。這兩種耗材相對要求要高一點,需要材質(zhì)更為精細(xì),顆粒非常小的原材料生產(chǎn)。

  3.拋光選擇的耗材是:拋光液,拋光盤(銅盤)。這個耗材要求最高,對精細(xì)度有著非常嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。一般是采用納米級顆粒度的原材料配置液體。也通常用的是微米級的金屬顆粒鍛造而成。

  選擇海德,保證拋光效果

    一般來說,研磨液都是以客戶工件的材質(zhì)和要達(dá)到的效果來配置的。在交貨前,海德工程師會依據(jù)客戶提供的工件試樣,除了要達(dá)到客戶拋光要求,還要實現(xiàn)高良率、高效率、低成本原則。交貨后,提供詳細(xì)的使用方法,并有工程師上門指導(dǎo),保證拋光效果。(詳情請咨詢海德:0755-89813868