產(chǎn)品用途:主要適用于單晶硅片、石英芯片、光學(xué)玻璃、陶瓷片、砷化鎵等薄脆金屬或非金屬材料的研磨。
產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):
1、 采用相適應(yīng)的最佳配方,達(dá)到研磨工件不同的技術(shù)要求。(材料灰口鑄鐵、球墨鑄鐵)
2、 按照研磨的不同要求,設(shè)計(jì)合理的加工工藝(槽距、槽寬、槽深)。速比相結(jié)合,最大限度的提高研磨質(zhì)量的使用效率。
3、 為了研磨高精度的質(zhì)量要求,專門設(shè)計(jì)專用量具來(lái)控制研磨盤的平行度、平面度,達(dá)到研磨工件的需要,降低修盤時(shí)間,提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。
4、 按照研磨的技術(shù)質(zhì)量要求,設(shè)計(jì)了科學(xué)的熱處理工藝。改善分子結(jié)構(gòu),從而使研磨盤穩(wěn)定性好,在使用過程中不變形,達(dá)到使用生產(chǎn)過程中產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,提高工效和使用壽命。
適用設(shè)備:本產(chǎn)品為海德研磨設(shè)備配套生產(chǎn),也廣泛適用于進(jìn)口研磨設(shè)備和同行研磨設(shè)備,詳情請(qǐng)咨詢海德客服人員。
直徑:380mm——610mm——810mm——910mm——1500mm
孔徑:200mm——500mm
基體厚度:45mm——100mm
粒度:50目——3000目
CBN工作層厚度:5mm——15mm
研磨盤精度:
平行度≤0.02mm
粗糙度0.1μm——1.2μm
平面度0.001mm——0.004mm,平行度≤0.002mm,等高≤0.002mm
相關(guān)研磨盤:鎢鋼研磨盤、氧化鋁研磨盤、氧化鈰研磨盤、合成鋁盤、鑄鐵盤、合成鐵盤、合成銅盤、合成錫盤等各類研磨盤,歡迎來(lái)電來(lái)涵洽談交流!咨詢熱線:400-6001202
備注:研磨盤的目數(shù),代表用于制作研磨盤顆粒(磨粒粒徑對(duì)藍(lán)寶石研磨機(jī)研磨性能的影響因素)大小,目數(shù)數(shù)字以顆粒直徑來(lái)表達(dá)。就代表研磨盤的研磨力度。目數(shù)與研磨力度成反比,目數(shù)越大,研磨盤力度更輕,目數(shù)越小,研磨盤力度越重。平面研磨機(jī)在確定研磨工藝的時(shí)候,研磨盤目數(shù)是一個(gè)首要的參數(shù)。目數(shù)過大或過小的研磨盤,對(duì)于工件的研磨都不合適,無(wú)法加工到理想的表面精度。
yle="font-size:12px;">型號(hào)-可定制 | yle="font-size:12px;">鑄鐵研磨盤 |
yle="font-size:12px;">砂輪規(guī)格 | yle="font-size:12px;">Ф380~Ф910mm |
yle="font-size:12px;">粗糙度 | yle="font-size:12px;">0.1μm——1.2μm |
yle="font-size:12px;">平面度 | yle="font-size:12px;">≤0.02mm |
yle="font-size:12px;">平行度 | yle="font-size:12px;">0.001mm——0.004mm |
yle="font-size:12px;">單盤零件之間尺寸誤差為 | yle="font-size:12px;">1~2μm |
yle="font-size:12px;"> 以上是yle="font-size:12px;">鑄鐵研磨盤的參數(shù),尺寸可根據(jù)客戶要求訂做。