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海德平面研磨機(jī)

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常用拋光液系列

藍(lán)寶石拋光液

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  • 產(chǎn)品介紹
  • 規(guī)格參數(shù)

  藍(lán)寶石研磨拋光液:藍(lán)寶石拋光液利用聚晶金剛石的特性,在研磨拋光過(guò)程中保持高切削效率的同時(shí)不易對(duì)工件產(chǎn)生劃傷??梢詰?yīng)用在藍(lán)寶石襯底的研磨和減薄、光學(xué)晶體、硬質(zhì)玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領(lǐng)域的研磨和拋光。

   外延片生產(chǎn)前襯底的雙面研磨:多用藍(lán)寶石研磨液研磨一道或多道,根據(jù)最終藍(lán)寶石襯底研磨要求用6um、3um、1um不等。

  LED芯片背面減薄:為解決藍(lán)寶石的散熱問(wèn)題,需要將藍(lán)寶石襯底的厚度減薄,從450nm左右減至 100nm左右。主要有兩步:先在橫向減薄機(jī)上,用50-70um的砂輪研磨磨去300um左右的厚度;再用拋光機(jī)針對(duì)不同的 研磨盤(錫/銅盤),采用合適的藍(lán)寶石研磨液(水/油性)對(duì)芯片背面拋光,從150nm減至100nm左右。

  藍(lán)寶石研磨拋光液的組分:優(yōu)質(zhì)聚晶金剛石微粉、水、酸、無(wú)機(jī)鹽、其他。適合藍(lán)寶石襯底的研磨和減薄、光學(xué)晶體、硬質(zhì)玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領(lǐng)域的研磨和拋光。(詳情請(qǐng)咨詢海德400-6001202


(圖一:部分添加試劑)

(圖二:拋光粉)

    一般來(lái)說(shuō),工件要實(shí)現(xiàn)鏡面效果,基本上都是要經(jīng)過(guò)粗拋、精拋和拋光這三道工序的。如果工件本身具有一定的精度,則可以省略粗拋工序。

  粗拋:去除毛坯的大部分余量,最后所達(dá)到的效果要保持到大致的幾何形狀與粗糙度。

  精拋:粗拋完成后的下一個(gè)工序就是精拋,結(jié)果是能夠保持最精確的幾何形狀以及精細(xì)的裂紋深度。

  拋光:工件通過(guò)了粗拋、精拋工藝后,進(jìn)入拋光工序;也是最終實(shí)現(xiàn)光學(xué)表面層實(shí)現(xiàn)的最后一個(gè)部分,前提下前兩者必須要為最后一步拋光做好準(zhǔn)備,使得在整個(gè)拋光過(guò)程當(dāng)中,盡量去除粗拋與精拋所留下的破環(huán)層,實(shí)現(xiàn)光學(xué)表面最理想鏡面效果。

  由于這三種工序不同,所用的研磨液也不一樣

  1.粗拋選擇的耗材是:粗拋液,粗磨盤(鑄鐵盤)。這兩種耗材的成分里面,主成分的材質(zhì)稍微較粗,要求硬度較高,顆粒度較大,這樣才有較好的切削力。

  2.精拋選擇的耗材是:精拋液,精磨盤(錫盤)。這兩種耗材相對(duì)要求要高一點(diǎn),需要材質(zhì)更為精細(xì),顆粒非常小的原材料生產(chǎn)。

  3.拋光選擇的耗材是:拋光液,拋光盤(銅盤)。這個(gè)耗材要求最高,對(duì)精細(xì)度有著非常嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。一般是采用納米級(jí)顆粒度的原材料配置液體。也通常用的是微米級(jí)的金屬顆粒鍛造而成。

  選擇海德,保證拋光效果

    一般來(lái)說(shuō),研磨液都是以客戶工件的材質(zhì)和要達(dá)到的效果來(lái)配置的。在交貨前,海德工程師會(huì)依據(jù)客戶提供的工件試樣,除了要達(dá)到客戶拋光要求,還要實(shí)現(xiàn)高良率、高效率、低成本原則。交貨后,提供詳細(xì)的使用方法,并有工程師上門指導(dǎo),保證拋光效果。(詳情請(qǐng)咨詢海德:400-6001202