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海德平面研磨機

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研磨盤_拋光盤Products

鐵盤系列

軟質(zhì)金屬材料研磨盤

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  • 產(chǎn)品介紹
  • 規(guī)格參數(shù)

  特點:具有較大的彈性、氣孔率和較強的吸水性,可隨添加劑調(diào)整硬度,兼顧加工時的拋光及切削性。在研磨過程中磨屑容易排除,不易產(chǎn)生“塞眼”,鋒利度好,自銳性優(yōu)異,解決了銅、鋁等類似材料在磨削過程易堵塞,難加工的問題。

  適用范圍:適合印刷行業(yè)的銅、鋁輥研磨及鏡面拋光,除去軟質(zhì)金屬板材表面的缺陷,經(jīng)研磨拋光后的表面可達到鏡面的效果,如電腦硬盤內(nèi)的鋁質(zhì)盤片的超精研磨加工。

名稱
適用研磨的材質(zhì)/研磨盤特性
適配磨料種類
合成鐵盤
屬性:粗磨盤。適用于硬材料的快速磨削,如:藍寶石,陶瓷,不銹鋼,S304,S13等材質(zhì)
金剛石粒度:
15μ-100μ
合成鑄鐵盤
屬性:超粗磨盤。具有傳統(tǒng)鑄鐵盤的效力,但易修整,磨料易嵌入,特別針對PCD,金剛石,鎢鋼等超硬材質(zhì)有明顯磨削作用
金剛石粒度:
100μ-300μ
合成銅盤
屬性:精磨盤。適用于中性硬度材質(zhì)的研磨,如:不銹鋼,銅,鋁等各類金屬,對光學玻璃,光纖等硬度一般的材質(zhì)效果也相當顯著
金剛石粒度:
3μ-15μ
合成錫盤
屬性:精磨盤。針對研磨產(chǎn)品材質(zhì):藍寶石,陶瓷,鐵,電子等,并具有對光學玻璃直接拋光的效果
金剛石粒度:
1/2μ-3μ
純錫盤
屬性:超細精磨盤。用高純度錫分子構(gòu)成,對藍寶石拋光有特效,另對光學玻璃,陶瓷,鎢鋼等均有良好研磨拋光作用
金剛石粒度:
50nm-1/2μ
及二氧化硅拋光液
氧化鈰盤
超細氧化鈰的復合材料構(gòu)成,專門用于光學玻璃研磨拋光,可代替?zhèn)鹘y(tǒng)氧化鈰拋光布,易修整,平面度高,具有研磨和拋光雙重功效
氧化鈰拋光液,水性液體
氧化鋁盤
專門用于鋁,銅等軟性材質(zhì)研磨效果均超過進口研磨盤
氧化鋁拋光液,水油性液體
碳化硅盤
適用于鋁合金,鋅合金等材料的研磨拋光,比傳統(tǒng)消耗品經(jīng)濟實惠,效率高
水油性研磨拋光液
金剛砂盤
可提供各種粒度研磨盤,適用于各種不銹鋼,亞克力,藍寶石,玻璃等材質(zhì)的研磨
水油性研磨拋光液
 

 

名稱
適用研磨的材質(zhì)/研磨盤特性
適配磨料種類
合成鐵盤
屬性:粗磨盤。適用于硬材料的快速磨削,如:藍寶石,陶瓷,不銹鋼,S304,S13等材質(zhì)
金剛石粒度:
15μ-100μ
合成鑄鐵盤
屬性:超粗磨盤。具有傳統(tǒng)鑄鐵盤的效力,但易修整,磨料易嵌入,特別針對PCD,金剛石,鎢鋼等超硬材質(zhì)有明顯磨削作用
金剛石粒度:
100μ-300μ
合成銅盤
屬性:精磨盤。適用于中性硬度材質(zhì)的研磨,如:不銹鋼,銅,鋁等各類金屬,對光學玻璃,光纖等硬度一般的材質(zhì)效果也相當顯著
金剛石粒度:
3μ-15μ
合成錫盤
屬性:精磨盤。針對研磨產(chǎn)品材質(zhì):藍寶石,陶瓷,鐵,電子等,并具有對光學玻璃直接拋光的效果
金剛石粒度:
1/2μ-3μ
純錫盤
屬性:超細精磨盤。用高純度錫分子構(gòu)成,對藍寶石拋光有特效,另對光學玻璃,陶瓷,鎢鋼等均有良好研磨拋光作用
金剛石粒度:
50nm-1/2μ
及二氧化硅拋光液
氧化鈰盤
超細氧化鈰的復合材料構(gòu)成,專門用于光學玻璃研磨拋光,可代替?zhèn)鹘y(tǒng)氧化鈰拋光布,易修整,平面度高,具有研磨和拋光雙重功效
氧化鈰拋光液,水性液體
氧化鋁盤
專門用于鋁,銅等軟性材質(zhì)研磨效果均超過進口研磨盤
氧化鋁拋光液,水油性液體
碳化硅盤
適用于鋁合金,鋅合金等材料的研磨拋光,比傳統(tǒng)消耗品經(jīng)濟實惠,效率高
水油性研磨拋光液
金剛砂盤
可提供各種粒度研磨盤,適用于各種不銹鋼,亞克力,藍寶石,玻璃等材質(zhì)的研磨
水油性研磨拋光液