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海德平面研磨機(jī)

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無蠟拋光墊的應(yīng)用范疇

發(fā)表時間:2015-03-17

  無蠟拋光墊,主要用于半導(dǎo)體硅晶體材料,寶石晶體片,硅片外延片等產(chǎn)品的單面拋光,屬于電子材料 的拋光裝置。這是一種圓形的、由多層樹脂材料組成的復(fù)合結(jié)構(gòu)、硅片用水(或研磨液)粘貼在鑲嵌層圓孔內(nèi)的吸附膜上。采用本實用新型,可對硅片,藍(lán)寶石進(jìn)行無蠟拋光,其表面總厚度變化小于6μm,省時、省力,本實用新型制造簡單、成本低。

  無蠟拋光模板在化學(xué)機(jī)械拋光製程中用于對晶片的固定;無蠟工藝在加工成本、生產(chǎn)效率都較有蠟工藝有更大的優(yōu)勢。長期以來,海德研磨致力于研發(fā)新的工藝技術(shù),生產(chǎn)新型行業(yè)使用的材料,降低客戶的生產(chǎn)成本,無蠟墊作為海德研磨公司的拳頭產(chǎn)品,為客戶節(jié)約了大量 的采購成本,目前海德研磨制造的無蠟拋光墊是國內(nèi)少有的可以與國外產(chǎn)品競爭的產(chǎn)品,藍(lán)寶石襯底拋光是一個成熟的產(chǎn)業(yè),受制于昂貴的無蠟墊等各類耗材成本,而價格高企,而目前許多數(shù)客戶都已開始使用海德研磨制造的無蠟墊,節(jié)約了采購成本和產(chǎn)品成本,不再受制于國外廠商,海德研磨所生產(chǎn)銷售的無蠟?zāi)0蹇梢愿鶕?jù)客戶拋盤大小定製;海德研磨新型無蠟拋光模板採用高硬度模板框架,在藍(lán)寶石晶片拋光應(yīng)用的競爭力超越其他廠家的模板。歡迎您前來考察和洽談合作!

無蠟拋光墊

  1.根據(jù)客戶要求,樣品和提供圖紙生產(chǎn)!

  2.公司擁有嚴(yán)格的生產(chǎn)工藝標(biāo)準(zhǔn),質(zhì)量穩(wěn)定!

  3.僅需圖紙或相關(guān)參數(shù),即可提供精密加工製作!

  4.免費為客戶設(shè)計加工或工程圖紙;

  5.設(shè)備多,可即時打樣,交貨迅速;

  晶體/藍(lán)寶石/精密金屬等拋光用吸附墊:

  1. 產(chǎn)品特點

  1) 優(yōu)質(zhì)平整度并提高生產(chǎn)力

  2) 吸水度比其他產(chǎn)品高3倍以上

  3) 無須溶劑洗滌,可縮短工藝時間

  4) 價格競爭力高,可降低成本,且環(huán)保

  2. 適用范圍

  1) 專門用于安裝無蠟硅晶片、LCD基片及玻璃面板

  2) ITO導(dǎo)電玻璃、玻璃基片、光掩模及LCD面罩拋光

  文章來源:http://shixunmm.cn