高精密雙面拋光加工應(yīng)用化學(xué)機(jī)械拋光(cNrn)技術(shù),靠工件、磨粒、拋光液及拋光盤的力學(xué)作用,在工件的拋光過(guò)程中,產(chǎn)生局部的高溫和高壓,從而使直接的物理化學(xué)變化直接發(fā)生在工件與磨粒、拋光液及拋光盤之間,導(dǎo)致工件的表面產(chǎn)生物理化學(xué)變化的反應(yīng)物。由于力學(xué)作用與化學(xué)作用的重迭,使得工件表面的反應(yīng)物不斷被磨去,從而使工件表面平滑化。
雙面拋光技術(shù)是在單面拋光加工技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的,由于它在薄片工件的加工過(guò)程中能有效地避免應(yīng)力差與粘結(jié)誤差引起的變形問題。 因此與單面拋光加工相比,雙面拋光具有加工效率高,表面變形小,易獲得超光滑加工表面的優(yōu)點(diǎn)。
一般的高精密雙面拋光系統(tǒng)是由承載工件和下拋光盤的工作臺(tái)、施加載荷的上拋光盤、帶動(dòng)工件旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的行星輪以及供給拋光液的裝置四大構(gòu)件組成,系統(tǒng)構(gòu)造如圖2-1所示。
在雙面拋光的過(guò)程中,由于拋光液與拋光墊之間的物理運(yùn)動(dòng),導(dǎo)致拋光液內(nèi)部的化學(xué)溶液以及磨粒于工件產(chǎn)生化學(xué)變化,同時(shí)在上拋光盤對(duì)工件的旋轉(zhuǎn)壓力的作用下,使工件表面產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)物得到切除。其原理就是,在不斷的化學(xué)變化中工件表面生成一種化學(xué)膜,同時(shí)由于旋轉(zhuǎn)機(jī)械摩擦切除作用去除這一層化學(xué)膜,在不停地交替中獲得超精密表面,這種超精密表面加工也被稱為游離磨料的CMP。在這種加工中,不能選用比工件硬度高地磨粒,只能選用硬度比工件軟或是與之相當(dāng)?shù)哪チ?。在機(jī)械與化學(xué)的雙重作用下,工件表面不斷生成一層極薄的化學(xué)膜,同時(shí)又被切除,達(dá)到極薄表面的加工,所以可以實(shí)現(xiàn)高精度、低表面粗糙度、無(wú)表面加工缺陷的工件表面。
深圳市海德精密機(jī)械有限公司研發(fā)生產(chǎn)高精密雙面研磨機(jī),如下圖所示
上圖的高精密雙面研磨機(jī)主要用于水晶玻璃、手機(jī)玻璃屏、光學(xué)玻璃、晶體、陶瓷、電子材料、硅、鎂、計(jì)算機(jī)磁盤、活塞環(huán)、陶瓷硬質(zhì)合金密封件、鎢鋼片、銨鐵硼、鐵氧體、鈮酸鋰、熱敏電阻等金屬及非金屬硬脆材料或異形件的雙平面精密研磨或拋光。
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