鏡面拋光機(jī)所用拋光液的濃度是拋光加工時(shí)的關(guān)鍵指標(biāo)之一,這關(guān)系到研磨時(shí)對(duì)工件的劃傷,摩擦?xí)r產(chǎn)生的磨削力等。海德研制拋光液,制造鏡面拋光機(jī)有多年的經(jīng)驗(yàn),精通鏡面拋光機(jī)和拋光液之間的關(guān)系,以及拋光液濃度對(duì)拋光效果的各種影響。以下是拋光液濃度對(duì)拋光效果的影響分析:
隨著 CeO2濃度的增大,氮化硅陶瓷加工表面Ra值變小,當(dāng)拋光液濃度超過(guò)20% 后,Ra值增大。其原因?yàn)?/span>: 拋光液濃度較低時(shí),拋光液中CeO2微粒不足,即沒(méi)有足夠的CeO2微粒參與化學(xué)反應(yīng),從而使氮化硅材料的去除率較低,表面粗糙度差; 當(dāng)拋光液濃度增大時(shí),化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程中參與化學(xué)反應(yīng)的原料供應(yīng)增加,加大了有效機(jī)械研磨作用,使局部溫度升高,化學(xué)反應(yīng)加速,并且生成的軟質(zhì)層被有效去除,從而實(shí)現(xiàn)了較高的去除率和加工表面質(zhì)量; 拋光液的濃度進(jìn)一步增大時(shí),化學(xué)作用得到進(jìn)一步的增強(qiáng),但是機(jī)械作用相對(duì)不足,導(dǎo)致表面粗糙度值增大。
找到影響拋光效果的關(guān)鍵因素之一,我們就能掌握拋光效果的完美實(shí)現(xiàn)。
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