海德專業(yè)生產(chǎn)高精密平面研磨機,平面拋光機,雙面研磨機,雙面拋光機,研磨液,拋光液,拋光皮,拋光墊,研磨盤,拋光盤,承接平面研磨拋光,鏡面拋光加工
打樣測試,按客戶的需求定制平面研磨拋光機,研磨液,拋光皮,研磨盤等.我們還會參與客戶的生產(chǎn),保證客戶高效率的量產(chǎn),與客戶共同發(fā)展.
承接各種材質(zhì)平面拋光加工：手機拋光加工、鋁合金拋光加工、不銹鋼拋光加工、藍寶石拋光加工、模具鋼鏡面拋光、陶瓷鏡面拋光等加工服務(wù)
如果您需要平面研磨拋光或鏡面拋光加工，我司可打樣測試。研磨拋光加工范圍是：工件材質(zhì)不限，直徑或?qū)蔷€≤470mm，厚度≤200mm。
在線溝通更便捷，只需描述加工要求(工件尺寸、材質(zhì)、要加工的平面度或粗糙度)，客服會解答您的疑問或郵寄相關(guān)資料。測試打樣。
在線客服溝通，方便、高效、快捷。我們還會參與到客戶的研發(fā)生產(chǎn)中，幫助客戶高效率的量產(chǎn)。
根據(jù)行業(yè)技術(shù)發(fā)展，市場動態(tài)和行業(yè)分析整理制作出最熱門相關(guān)研磨專題。
海德人工作中積極主動，生活中也不凡情調(diào)。我們堅信：只有開闊視野和愉悅心情，才能在工作中游刃有余。單面硅片研磨機主要適用于4-6寸硅片、藍寶石、鍺片、鈮酸鋰、鉭酸鋰、玻璃等片狀硬脆材料的單面高精度平面研磨拋光加工。
單面硅片研磨機主要技術(shù)參數(shù)
1主拋光盤直徑 φ1282mm
2拋光盤直徑 φ485mm
3主拋光盤轉(zhuǎn)速 0～65rpm
4拋光頭轉(zhuǎn)速 0～65rpm
5拋光頭數(shù)量 4
6拋光頭升降氣缸缸徑 φ200mm
7主拋光盤驅(qū)動電機 22kW 1470rpm 380V
8拋光頭驅(qū)動電機 0.75kW×4
9設(shè)備外形尺寸(長×寬×高) 3050 mm×1740 mm×2600 mm
10設(shè)備質(zhì)量 約6500Kg
單面硅片研磨機主要配置
1主減速箱 日本住友
2上盤光頭減速箱 日本住友
3下盤軸承 洛軸
4氣缸 SMC
5 PLC OMRON
6 PT人機界面 OMRON
7變頻器 施耐德
8電磁閥 SMC等
9溫控儀 美國RALTEK
10循環(huán)冷卻機組 中科科儀
11主電機 國產(chǎn)
12按鈕開關(guān) FUJI、OMRON、SCHNEIDER等
單面硅片研磨機的安裝
設(shè)備應(yīng)安裝在地面平坦、遠離振動源、無灰塵煙霧污染的場所。
a 溫度10℃-25℃
b 相對濕度≦95%
c 電源電壓AC 380V ，50Hz
d 壓縮空氣源 0.5-0.6Mpa(必須為干燥的清潔空氣)
單面硅片研磨機能達到的精度
1、基盤端面跳動≤ 0.035mm
2、基盤平面度≤0.025mm
單面硅片研磨機特點
1、主拋光盤及四組拋光頭均采用變頻無級調(diào)速，并能方便設(shè)置四組拋光頭的同步轉(zhuǎn)速，使拋光過程的相對速度協(xié)調(diào)一致;
2、拋光過程采用四段壓力——拋光頭自重、壓力1、壓力2、拋光頭自重，拋光過程時間、壓力轉(zhuǎn)換可按照不同的拋光工藝而設(shè)定，極大地滿足了不同拋光工藝對設(shè)備的要求;
3、整機配套非接觸式主盤溫度檢測裝置，并進行實時顯示;
4、整機采用PLC控制方式，操作方便，顯示豐富，控制先進可靠;
5、主拋光盤內(nèi)設(shè)冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，可實現(xiàn)拋光盤溫度的精確控制，極大地提高了拋光片質(zhì)量的穩(wěn)定。
6、選用世界知名廠商的外購元器件配套，保證了設(shè)備的運轉(zhuǎn)精度和使用可靠性，其可靠性及精度指標(biāo)完全滿足了藍寶石單面拋光的需求。
氮化硅陶瓷鏡面拋光
