平面研磨機(jī)的半固結(jié)模具技術(shù)應(yīng)用于石英晶片研磨加工
為了解決超薄石英晶片高表面質(zhì)量的加工問題,以及尋求一種高效低成本的加工方法,將一種新的超精密拋光工藝應(yīng)用到超薄石英晶片的加工中。依照傳統(tǒng)的平面研磨機(jī)游離磨粒加工,因?yàn)楣ぜc磨具之間的磨粒粒度實(shí)際不均勻,較大尺度的磨?;驈墓ぜ系袈涞某叨容^大的磨削簡(jiǎn)單進(jìn)入加工區(qū),使得無論是硬質(zhì)研磨盤還是軟質(zhì)盤,大顆粒與磨粒的載荷不同,簡(jiǎn)單致使工件的外表損害。
平面研磨機(jī)的半固結(jié)磨料磨具和一般磨具在結(jié)構(gòu)上對(duì)比相似,由磨粒、孔隙、結(jié)合劑構(gòu)成,但組合劑強(qiáng)度不大,當(dāng)硬質(zhì)大顆粒進(jìn)入加工區(qū)時(shí),研磨盤上大顆粒周圍磨粒可發(fā)生方位搬遷,構(gòu)成“圈套”空間,使大顆粒與磨粒趨于等高。使得載荷變化小,外表損害也相對(duì)較低。
由于石英晶片的基頻與表面質(zhì)量直接相關(guān),石英晶片超精密平面研磨機(jī)半固結(jié)磨粒磨具加工技術(shù),使石英晶片表面質(zhì)量有望得到提高。石英晶片的基頻,也因此得到了穩(wěn)定及提高。
實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:使用該工藝加工超薄石英晶片可以得到厚度為9.7mm、表面粗糙度為0.002mm的超光滑表面;同時(shí),該研究還發(fā)現(xiàn)通過延長(zhǎng)拋光時(shí)間可以減小石英晶片的表面殘余應(yīng)力,可有效控制石英晶片四角“翹曲”現(xiàn)象,得到更好的平面度和平行度。相關(guān)設(shè)備:平面研磨機(jī)