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海德平面研磨機(jī)

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研磨拋光技術(shù)

藍(lán)寶石晶片研磨、硅片拋光所用得設(shè)備是雙面研磨機(jī)

發(fā)表時(shí)間:2015-03-05

  藍(lán)寶石晶片研磨、硅片拋光所用得設(shè)備是雙面研磨機(jī)

藍(lán)寶石晶片研磨

  隨著光電了信息產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,要求光電了元件基片的藍(lán)寶石、單晶硅等不僅具有超光滑的加工表面,而且具有極高的表面精度。采用雙面拋光加工的電了晶片可獲得較高加工效率及優(yōu)良的加工表面平整度與光潔度,但加工設(shè)備復(fù)雜,加工工藝要求也極為嚴(yán)格。

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雙面研磨機(jī)

  高精密大型雙面研磨機(jī)使用范圍:

  該機(jī)廣泛用于手機(jī)玻璃、光學(xué)玻璃晶片、LED藍(lán)寶石襯底、陶瓷板、活塞環(huán)、閥片、釹鐵硼、鐵氧體、鈮酸體、鈮酸鋰、鉭酸鋰、PTC熱敏電阻、光盤基片、陶瓷密封環(huán)、硬質(zhì)合金、密封環(huán)、鎢鋼片、等各種材料的雙面研磨拋光。

  高精密大型雙面研磨機(jī)原理:

  本系列研磨機(jī)為精密磨削設(shè)備,上、下研磨盤作相反方向轉(zhuǎn)動(dòng),工件在載體內(nèi)作既公轉(zhuǎn)雙自轉(zhuǎn)的游星運(yùn)動(dòng).磨削阻力小不損傷工件,而且兩面磨削均勻,生產(chǎn)效率高.

  高精密大型雙面研磨機(jī)特點(diǎn):

  1.采用日本SMC氣動(dòng)元件,分段精密加壓控制,適合粗磨、中磨、精磨、精拋等工藝要求。

  2.系列研磨機(jī)采用四段壓力,即輕壓、中壓、重壓、修研的運(yùn)行過程。

  3.采用日本NSK主軸軸承、確保機(jī)器的精密性及耐用性。

  4.上磨盤快升、快降、緩升、緩降集中于一個(gè)手柄,操作更方便。

  5.獨(dú)特的安全鎖緊機(jī)構(gòu),防止意外斷氣、斷電而“掉盤”傷人的意外發(fā)生。

  6.可根據(jù)用戶要求增加光柵厚度控制系統(tǒng),加工后的產(chǎn)品厚度公差可控制在0.002mm范圍內(nèi);平面度公差可控制在0.001mm范圍內(nèi).

  7.齒圈及擋水盤半動(dòng)升降系統(tǒng),既方便取放工件及嚙合齒輪,又滿足改變游輪嚙合高低位置的要求。

  8.整機(jī)的運(yùn)行采用獨(dú)立電機(jī)拖動(dòng),使上盤、下盤、中心輪、速度達(dá)到最佳配比,游輪實(shí)現(xiàn)正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)、滿足修盤工藝需求。

  文章關(guān)健字:藍(lán)寶石晶片研磨、硅片拋光、雙面研磨機(jī)

  文章來源:http://shixunmm.cn