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海德平面研磨機(jī)

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行業(yè)新聞

氧化鈰拋光液

發(fā)表時間:2015-01-02

  氧化鈰拋光液:是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液,該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點(diǎn)。粒度在0.2μm-1.2μm范圍內(nèi);包 裝:25KG/桶。本品需在0 ℃以上儲存,防止結(jié)冰,在0 ℃以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效??筛鶕?jù)用戶需要配制不同濃度和不同粒度的氧化鈰研磨液。

氧化鈰拋光液
氧化鈰拋光液

  應(yīng)用范圍:硅晶圓片拋光、鍺片拋光、砷化鎵拋光、磷化銦拋光、光學(xué)晶體拋光、藍(lán)寶石襯底拋光、LED襯底拋光、硒化鋅拋光、玻璃拋光、石英拋光等。也廣泛用于高精密光學(xué)儀器,光學(xué)鏡頭,微晶玻璃基板,晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。