海德專業(yè)生產(chǎn)高精密平面研磨機(jī),平面拋光機(jī),雙面研磨機(jī),雙面拋光機(jī),研磨液,拋光液,拋光皮,拋光墊,研磨盤,拋光盤,承接平面研磨拋光,鏡面拋光加工
免費(fèi)打樣,按客戶的需求定制平面研磨拋光機(jī),研磨液,拋光皮,研磨盤等.我們還會參與客戶的生產(chǎn),保證客戶高效率的量產(chǎn),與客戶共同發(fā)展.
承接各種材質(zhì)平面拋光加工：手機(jī)拋光加工、鋁合金拋光加工、不銹鋼拋光加工、藍(lán)寶石拋光加工、模具鋼鏡面拋光、陶瓷鏡面拋光等加工服務(wù)
如果您需要平面研磨拋光或鏡面拋光加工，我司可免費(fèi)打樣。研磨拋光加工范圍是：工件材質(zhì)不限，直徑或?qū)蔷€≤470mm，厚度≤200mm。
在線溝通更便捷，只需描述加工要求(工件尺寸、材質(zhì)、要加工的平面度或粗糙度)，客服會解答您的疑問或郵寄相關(guān)資料。免費(fèi)打樣。
在線客服溝通，方便、高效、快捷。我們還會參與到客戶的研發(fā)生產(chǎn)中，幫助客戶高效率的量產(chǎn)。
根據(jù)行業(yè)技術(shù)發(fā)展，市場動態(tài)和行業(yè)分析整理制作出最熱門相關(guān)研磨專題。
海德人工作中積極主動，生活中也不凡情調(diào)。我們堅(jiān)信：只有開闊視野和愉悅心情，才能在工作中游刃有余。
本產(chǎn)品適用于半導(dǎo)體材料如硅片的表面粗/中拋光，其最大特點(diǎn)是在具有較高拋光去除速率(0.9μm/min)的同時可多次循環(huán)使用，循環(huán)使用過程中拋光去除速率及拋光后表面質(zhì)量穩(wěn)定，有效降低拋光液使用成本。拋光后晶片表面的微粗糙度在 0.2nm以下，已經(jīng)在國內(nèi)知名拋光片生產(chǎn)線上使用，完全符合生產(chǎn)應(yīng)用要求，可替代現(xiàn)有國外同類進(jìn)口產(chǎn)品。
外觀乳白色或微藍(lán)色透明溶液。
含量(以SiO2%計) ——15%-25%
pH值 ——————— 10.8-11.8
比重(20℃) ————— 1.10-1.20
粒徑—————————10nm-25nm
粘度(20°C)————小于25c.p
