海德專業(yè)生產(chǎn)高精密平面研磨機(jī),平面拋光機(jī),雙面研磨機(jī),雙面拋光機(jī),研磨液,拋光液,拋光皮,拋光墊,研磨盤,拋光盤,承接平面研磨拋光,鏡面拋光加工
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海德人工作中積極主動(dòng)，生活中也不凡情調(diào)。我們堅(jiān)信：只有開闊視野和愉悅心情，才能在工作中游刃有余。拋光盤轉(zhuǎn)速對(duì)材料表面粗糙度的影響
平面拋光過(guò)程中，材料的去除是由關(guān)系復(fù)雜的多個(gè)因素相互作用的結(jié)果。而樣品下方的拋光液的流動(dòng)特性(如液流層厚度等)直接影響到平面拋光過(guò)程中化學(xué)作用和機(jī)械作用的效果，進(jìn)而影響著工件表面的加工質(zhì)量。
圖 4.8 拋光盤轉(zhuǎn)速對(duì)表面粗糙度的影響
如圖 4.8 所示為拋光盤轉(zhuǎn)速對(duì)材料表面粗糙度的影響。從圖可知拋光盤轉(zhuǎn)速在小于 60r/min 時(shí)，表面粗糙度隨拋光盤轉(zhuǎn)速的增加而減小，并在 60r/min 時(shí)達(dá)到最小值 Ra0.028 ，當(dāng)拋光盤轉(zhuǎn)速大于 60r/min 繼 續(xù)增加時(shí)，合金表面的粗糙度值增大。因?yàn)樵囼?yàn)中拋光液的流量是有限的，在一定范圍內(nèi)，相同拋光載荷的條件下，拋光盤轉(zhuǎn)速增加使得拋光液在拋光墊上的流 動(dòng) 速度增加，因此盤面上拋光液液膜的支撐力也會(huì)增加，所以為了保持液膜負(fù)荷力與拋光壓力相互平衡，拋光液液膜的最小厚度增加。
同時(shí)，在拋光液膜最小厚度相同的情況下，拋光盤轉(zhuǎn)速的增加，使得拋光液動(dòng)壓效應(yīng)增強(qiáng)，液膜所承受的負(fù)荷力增大，所以為了使拋光液膜能在所受載荷不變的 條 件下達(dá)到受力的平衡，只有通過(guò)加大拋光液流場(chǎng)內(nèi)液膜厚度的方式來(lái)減小液膜負(fù)荷力，同時(shí)也使得最小拋光液膜厚度增加。而當(dāng)拋光盤轉(zhuǎn)速過(guò)大時(shí)，拋光液在盤 面上 受到的離心力增大，部分拋光液未到達(dá)拋光區(qū)域即被甩出拋光盤面，導(dǎo)致拋光區(qū)域液膜的拋光液供應(yīng)不足，同時(shí)此時(shí)拋光壓力的作用使得樣品與拋光墊之間的 間隙尺 寸很小，拋光液的補(bǔ)充更加困難。所以過(guò)高的拋光盤轉(zhuǎn)速，使拋光液膜分布不均勻，拋光后表面質(zhì)量變差。試驗(yàn)還發(fā)現(xiàn)當(dāng)拋光盤轉(zhuǎn)速過(guò)大時(shí)，拋光盤盤面抖 動(dòng)較大， 機(jī)床穩(wěn)定性較差，也不利于得到完美的表面。因此，兼顧多種因素，平面拋光過(guò)程中的拋光盤轉(zhuǎn)速應(yīng)該控制在 60r/min 左右比較合適。
