精磨又稱細(xì)磨。它是介于粗磨與拋光兩大工序之間的重要工序。 精磨的目的是保證工件達(dá)到拋光前所需要的面形精度、尺寸精度和表面粗糙度。因此，精磨的質(zhì)量對(duì)拋光的影響是非常重要的。

　　精磨的方法分為散粒磨料精磨和金剛石精磨。前者稱為古典法精磨，又稱自由研磨;后者稱為高速精磨。

　　精磨的技術(shù)要求與技術(shù)分類

　　一、精磨的技術(shù)要求。

　 　1、表面粗糙度要求 粗磨完工的光學(xué)玻璃表面粗糙度比較大，即表面凹凸程度很嚴(yán)重。散粒磨料加工常以金剛砂研磨后留下來的表面，其玻璃表面破壞層約30微米，表面粗糙度RZ小 于6微米;固著磨料加工常以金剛石砂輪加工的表面，其表面破壞層約50微米，表面粗糙度RZ約在0.9微米以下。 精磨的目的之一，就是要使光學(xué)玻璃表面凹凸程度變小，以達(dá)到能被拋光拋去的程度。目前情況下認(rèn)為：用散粒磨料以金剛砂加工后破壞層在12微米以下，粗糙度 在0.4微米以下;固著磨料加工時(shí)，以W10金剛石丸片加工后的破壞層在8微米以下，表面粗糙度Rz在0.35微米以下。

　 　2、幾何面形精度要求 光學(xué)完工的幾何面形要求—般很高，往往是在微米級(jí)精度，要達(dá)到這樣高的精度，只能通過精磨這道工序逐級(jí)提高，從而為最后的拋光工序作好準(zhǔn)備。在古典法拋光 中，精磨后的表面幾何形狀要比拋光完工零件差4～8個(gè)牛頓干涉圈，大約2微米左右;在現(xiàn)代高速拋光中只能相差2個(gè)牛頓干涉圈，約0.5微米左右。這里要注 意，在實(shí)際生產(chǎn)中，精磨后的面形應(yīng)該是低光圈，這時(shí)對(duì)凸透鏡來說是曲率半徑應(yīng)大一些，而對(duì)凹透鏡則相反，曲率半徑要小一些。

　　二、精磨方法的分類

　 　精磨一般可以分為散粒磨料研磨法和固著磨料法。后者又分為：成型面形工具和范成法之分。散粒磨料精磨也稱古典法，就是以金屬成型模具(通常用黃銅)，中 間加上金剛砂對(duì)玻璃逐步研磨。每更換一次磨料粒度就得更換一個(gè)曲率半徑的球摸。對(duì)加工凸透鏡來說，磨料粒度越來越細(xì)，相應(yīng)地球模曲率半徑也將越來越小。 固著磨料精磨法亦稱金剛石高速精磨，又稱微粉細(xì)磨。 所謂成型法丸片高速精磨，就是用含有金剛石微粒的青銅基體做成的小圓片按一定排列膠成球面形或平面形。對(duì)玻璃進(jìn)行銑磨加工，這種方法最為常用。 范成法高速精磨與球面銑磨完全一樣，唯一不同的是磨輪的金剛石粒度比較細(xì)一點(diǎn)而已。